ПОСТАВЩИКИ МАШИН И ОБОРУДОВАНИЯ
/ Китай запустил производство крупных пластин из оксида галлия
Китай запустил производство крупных пластин из оксида галлия
Китай запустил производство крупных пластин из оксида галлия
02.07.2026

Китайская компания Hangzhou Garen Semiconductor заявила о серьёзном шаге вперёд в полупроводниковой отрасли: она первой в мире наладила линию массового производства, которая работает с 6‑ и 8‑дюймовыми пластинами из оксида галлия. Это может заметно ускорить выход на рынок силовых полупроводников нового поколения.

Уже сейчас компания поставила 6‑дюймовые (100‑миллиметровые) гомоэпитаксиальные пластины из оксида галлия ведущим производителям микросхем. В Garen считают это началом стабильных серийных поставок.

Почему размер имеет значение


Сегодня на рынке в основном встречаются пластины из оксида галлия диаметром 2–4 дюйма — этого недостаточно для по-настоящему масштабного выпуска современных устройств. Переход на более крупные форматы — важный рубеж: на одной 8‑дюймовой пластине можно разместить примерно в четыре раза больше чипов, чем на 4‑дюймовой. Это напрямую снижает себестоимость каждого устройства и делает технологию выгоднее для промышленности.

Оксид галлия интересен инженерам из‑за своей сверхширокой запрещённой зоны: устройства на его основе выдерживают более высокие напряжения и температуры по сравнению с традиционным кремнием. Поэтому материал рассматривают для применения в электромобилях, высоковольтных электросетях, системах накопления энергии и радиочастотной связи — везде, где нужна надёжность в жёстких условиях.

Как удалось добиться прогресса


В Garen объясняют успех сочетанием двух технологий: запатентованного метода выращивания монокристаллов методом литья и оптимизированного процесса эпитаксии с помощью металлоорганического химического осаждения из газовой фазы (MOCVD).

Такой подход даёт сразу несколько преимуществ:

  • удаётся получать сверхтолстые кристаллы оксида галлия;
  • выход подложек увеличивается в 3–4 раза по сравнению с традиционными методами;
  • существенно снижается расход иридия — в результате стоимость одной подложки падает более чем на 80 %.

По данным компании, толщина эпитаксиальных слоёв на 6‑дюймовых пластинах превышает 10 микрометров, а отклонение по толщине — менее 1 %. Такая однородность важна для стабильной работы силовых устройств, особенно в высоковольтных, высокочастотных и высокотемпературных системах.

Полный цикл и растущий спрос


Garen подчёркивает, что построила полностью интегрированную цепочку: от выращивания монокристаллов и обработки подложек до гомоэпитаксии. При этом линия способна стабильно выпускать как 6‑, так и 8‑дюймовые пластины, сохраняя качество от партии к партии.

Интерес к технологии уже выходит за пределы Китая: наряду с долгосрочными контрактами с местными производителями микросхем, заказы начали поступать от зарубежных компаний и исследовательских институтов.

Производство крупных пластин стабильного качества — одна из самых сложных задач для оксида галлия. Если заявленные показатели подтвердятся в реальных промышленных условиях, это станет серьёзным толчком к широкому внедрению материала в силовой электронике.