Лабораторные установки химического газофазного осаждения CVD

Лабораторные установки химического газофазного осаждения CVD для нанесения покрытий из тугоплавких металлов и соединений (Та, ТаС, Nb, Mo и др.) на плоские образцы (ЛП), на образцы сложной формы (ЛС) и образцы трубчатой формы (ЛТ)

Установки позволяют проводить изучение процессов осаждения высокотемпературных защитных покрытий методами химического парофазного разложения или окисления-восстановления прекурсоров.

Особенностью установок является возможность проведения осаждения тугоплавких соединений с помощью восстановления галогенидов тугоплавких металлов цинком и кадмием. Кроме того, установки позволяют осаждать покрытия с помощью восстановления галогенидов тугоплавких металлов водородом, а также с помощью пиролиза, например, металлорганических соединений.

Возможности технологических решений:

Могут использоваться для низкотемпературного газофазного нанесения покрытий и создания нанопорошков тугоплавких металлов V, Cr, Mo, W, Hf, Zr, Nb, Ta, Re, а также их силицидов, боридов и карбидов.

Разрабатываемые технологии пригодны для нанесения беспористых высокоплотных покрытий в безводородных средах на детали сложной формы, в том числе трубчатые,

с высокой скоростью нанесения. Кроме того, технологические решения позволяют создавать многослойные многофункциональные покрытий, один из слоев которых выполняет функции диффузионного барьера, а другой – защиты.

При нанесении покрытий используются реагенты и расходные материалы отечественного производства.

Эффект от применения:

Применение перечисленных материалов в виде покрытий позволит существенно снизить удельный вес оборудования, производственные и эксплуатационные затраты, а также повысить качественные характеристики производимых изделий.

Технические характеристики установок ЛП, ЛТ, ЛС

- максимальная потребляемая мощность - 15 кВт,

- рабочее напряжение силового блока: трехфазная сеть 380 В,

- объемный расход газов-носителей - от 1 до 100 л/час,

- количество каналов подачи газа – 4 (2) шт, расход газов по каналам до 600 мл/мин (по воздуху),

- имеется возможность регулирования скоростей потоков газов,

- нагрев зоны осаждения покрытия на поверхности образца - 300 – 1100°С,

- рабочее давление вакуумной системы лабораторной установки от 10 до 2х105 Па,

- автоматизация процессов осаждения покрытий (компьютерное управление).