Системы: PECVD установка плазмо-химического осаждения диэлектриков без вакуумного загрузочного шлюза (open lid system) Depolab 200 PECVD установка плазмо-химического осаждения диэлектриков с вакуумный загрузочным шлюзом: SI 500PPD ICPECVD установка плазмо-химического низкотемпературного осаждения высококачественных пленок (SiO2, Si3N4, SiOx, SiOxNy) в индуктивно связанной плазме: SI 500 D Кластерная конфигурация систем (до 3 реакторов в кластере). Мониторинг процессов - in-situ эллипсометрия, интерферометрия, оптическая эмиссионная спектрометриядля контроля скорости роста пленок, определения конечной точки окончания процесса (end point detection).