Позитивная диазопленка для изготовления фотошаблонов при экспонировании защитных масок при пайке. Диазопленка предназначена для всех приложений в РСВ защитных масок, наружных и внутренних слоев и др. IMD-XT предназначена для воспроизведения тех же размеров на диазошаблоне как с хорошего качественного серебросодержащего материала. Эмульсия обеспечивает высокую сопротивляемость к царапинам, защитной маске и растворителям. IMD-XT пленка состоит из очень тонкого светочувствительного слоя, содержащего диазотипные соли, красящие вещества и кислотный стабилизатор, нанесенный на полиэфирную основу толщиной 180 мкм. IMD-XT предназначена для изготовления высококачественных прозрачных фотошаблонов, стойких к царапинам, химически стойких к жидкостям, а также сухим фоторезистам